Mọi thông tin xin liên hệ:
NGUYỄN HOÀNG LONG (Mr.)
Sales Manager
H/P : 0932 664422
Tel : (08). 66 570 570
Fax : (08). 35 951 053
PERKIN ELMA - HỆ THỐNG QUANG PHỔ PHÁT XẠ
GHÉP NỐI CẶP CẢM ỨNG ICP-OES
MODEL:
OPTIMA 8300
HÃNG SẢN
XUẤT: PerkinElmer- Mỹ
- Thiết bị
ICP-OES Optima 8300 có khả năng phân tích nhanh, đồng thời nhiều nguyên tố theo
cả chế độ dọc trục, chế độ xuyên tâm hoặc đồng thời cả hai chế độ.
- Thiết bị được điều khiển hòan toàn bằng máy vi tính bao gồm cả tốc độ dòng khí, lưu lượng dòng khí và các thiết bị phụ trợ thông qua phần mềm Winlab và cho phép máy hoạt động ổn định.
- Thiết bị có khả năng phân tích các mẫu trong môi trường acid, bazơ, mẫu có hàm lượng chất rắn hòa tan cao và mẫu trong nền dung môi hữu cơ.
- Toàn bộ thiết bị sử dụng nguồn điện: 220V/50Hz.
Hệ thống bao gồm:
- Thiết bị được điều khiển hòan toàn bằng máy vi tính bao gồm cả tốc độ dòng khí, lưu lượng dòng khí và các thiết bị phụ trợ thông qua phần mềm Winlab và cho phép máy hoạt động ổn định.
- Thiết bị có khả năng phân tích các mẫu trong môi trường acid, bazơ, mẫu có hàm lượng chất rắn hòa tan cao và mẫu trong nền dung môi hữu cơ.
- Toàn bộ thiết bị sử dụng nguồn điện: 220V/50Hz.
Hệ thống bao gồm:
Thiết bị
ICP-OES Optima 8300
- Hệ quang học:
- Hệ thống
quang học khép kín và được ổn định nhiệt độ.
Bộ đa cách tử nhiễu xạ Echelle diện tích 80x160mm, tán sắc ánh sáng theo các bậc nhiễu xạ khác nhau trên gương Schmidt.
Bộ đa cách tử nhiễu xạ Echelle diện tích 80x160mm, tán sắc ánh sáng theo các bậc nhiễu xạ khác nhau trên gương Schmidt.
- Mật độ
vạch 79 vạch/mm dòng năng lượng cao sử dụng cho hai đầu dò SCD ghép mảng
(Segmented-array Charge – couple Device detector).
- Khoảng
bước sóng làm việc: 163 - 782 nm, đo đồng thời toàn bộ các nguyên tố có cường
độ phát xạ vùng bước sóng từ tử ngoại UV đến vùng khả kiến Vis.
- Độ phân
giải 0.006nm ở bước sóng 200 nm
Chế độ đo:
+ Optima
8300 cho phép đo cường độ phát xạ theo hai chế độ: dọc trục và
xuyên tâm hoặc đồng thời theo hai chế độ.
+ Chế độ đo cường độ phát xạ từ nguồn Plasma
được thực hiện và điều khiển từ máy vi tính. Bằng cách di chuyển một gương đặt
trên đường dẫn quang học, thực hiện chế độ đo như: dọc trục, xuyên tâm hoặc
đồng thời cả hai chế độ, và điều chỉnh khả năng đo cường độ phát xạ từ nguồn
Plasma theo hai mặt phẳng nằm ngang và thẳng đứng.
Vị trí đo
được tối ưu hóa từ phần mềm.
- Đầu dò (Detector):
Hai đầu dò SCD (Segmented Array Charge coupled Device Detector) một sử dụng cho ánh sáng
phát xạ vùng tử ngoại và một sử dụng cho ánh sáng phát xạ vùng khả kiến.
Detector SCD bao gồm 235 mảng nhỏ, kích thước 13x19mm.
Độ ồn tín hiệu đọc: 13 electron RMS.
Dòng tối (Dark current): < 100 electron/pixels/giây.
Tốc độ đọc: 50 µgiây/pixel.
Detector được làm lạnh tới – 40oC cho dòng tối thấp, đem lại giới hạn phát hiện tốt hơn.
Detector SCD bao gồm 235 mảng nhỏ, kích thước 13x19mm.
Độ ồn tín hiệu đọc: 13 electron RMS.
Dòng tối (Dark current): < 100 electron/pixels/giây.
Tốc độ đọc: 50 µgiây/pixel.
Detector được làm lạnh tới – 40oC cho dòng tối thấp, đem lại giới hạn phát hiện tốt hơn.
- Nguồn phát cao tần (Nguồn tạo Plasma):
Sử dụng công nghệ plasma Flat Plate với thiết kế mới dạng tấm thay thế cho cuộn cảm dạng xoắn truyền thống, không cần bảo trì, không yêu cầu làm mát do đó giảm lượng khí argon tiêu thụ. Dòng khí plasma được thiết kế chạy ở 8 Lít/phút cho bất kỳ năng lượng cao tần nào.
Sử dụng công nghệ plasma Flat Plate với thiết kế mới dạng tấm thay thế cho cuộn cảm dạng xoắn truyền thống, không cần bảo trì, không yêu cầu làm mát do đó giảm lượng khí argon tiêu thụ. Dòng khí plasma được thiết kế chạy ở 8 Lít/phút cho bất kỳ năng lượng cao tần nào.
Nguồn phát
cao tần kiểu bán dẫn (Solid state RF Generator) với tần số 40 MHz
Công suất phát cao tần có thể điều chỉnh: 750 - 1500 W với độ ổn định công suất đầu ra <0.1%.
Công suất phát cao tần có thể điều chỉnh: 750 - 1500 W với độ ổn định công suất đầu ra <0.1%.
Bước thay
đổi công suất cao tần: 1W
Tính năng True Power Control giúp duy trì năng lượng plasma tại điểm đặt, ngay cả khi nền mẫu thay đổi.
Hiệu suất phát cao tần: > 81%.
Tính năng True Power Control giúp duy trì năng lượng plasma tại điểm đặt, ngay cả khi nền mẫu thay đổi.
Hiệu suất phát cao tần: > 81%.
Việc đánh
lửa plasma được điều khiển từ máy tính và hoàn toàn tự động. Phần mềm cho phép
plasma được đánh lửa tự động theo thời điểm được xác định bởi người sử dụng và
tắt tự động sau khi phân tích.
- Hệ thống
hiệu chuẩn lại bước sóng (chuẩn nội):
Điều khiển từ máy vi tính
Hệ thống chuẩn lại bước sóng bằng đèn thủy ngân và shutter: Một đèn thủy ngân được lắp đặt trên shutter, dùng để hiệu chuẩn bước sóng của hệ thống tại vạch phát xạ 253 nm của Hg với tần số kiểm tra do người sử dụng chọn hoặc tự động cập nhật (Automatically update the system wavelengths calibration).
Điều khiển từ máy vi tính
Hệ thống chuẩn lại bước sóng bằng đèn thủy ngân và shutter: Một đèn thủy ngân được lắp đặt trên shutter, dùng để hiệu chuẩn bước sóng của hệ thống tại vạch phát xạ 253 nm của Hg với tần số kiểm tra do người sử dụng chọn hoặc tự động cập nhật (Automatically update the system wavelengths calibration).
- Shutter
hoạt động đóng mở tự động cho mỗi lần đo, bảo vệ hệ thống gương khỏi sự tiếp
xúc với tia UV từ nguồn plasma, kéo dài tuổi thọ của gương.
- Hệ thống điều khiển khí sử dụng cho plasma
- Dòng khí
sử dụng cho plasma được cài đặt và điều khiển hòan tòan tự động qua phần mềm.
Valve selenoid tự động điều chỉnh lưu lượng khí argon từ 0 - 20 lít/phút cho plasma với bước tăng 1 lít/phút, 0 – 2 lít/phút cho dòng khí phụ trợ với bước tăng 0.1 lít/phút.
Valve selenoid tự động điều chỉnh lưu lượng khí argon từ 0 - 20 lít/phút cho plasma với bước tăng 1 lít/phút, 0 – 2 lít/phút cho dòng khí phụ trợ với bước tăng 0.1 lít/phút.
+ Khí cắt
đuôi lạnh plasma
Sử dụng không khí nén với lưu lượng: 18 - 25 lít/phút.
Dùng để loại bỏ đuôi plasma trên đường dẫn quang học.
Giảm nhiễu và mở rộng khoảng động học.
Sử dụng không khí nén với lưu lượng: 18 - 25 lít/phút.
Dùng để loại bỏ đuôi plasma trên đường dẫn quang học.
Giảm nhiễu và mở rộng khoảng động học.
- Chức năng an toàn: tự động kiểm tra các thông số của hệ thống như: tốc
độ nước làm lạnh, áp suất khí cắt đuôi lạnh, áp suất khí argon, cửa buồng
plasma, độ ổn định plasma liên tục hiển thị khoá trên màn hình.
Nếu có một thông số làm việc nào không đúng với điều kiện an toàn, thì plasma sẽ tự động tắt.
Nếu có một thông số làm việc nào không đúng với điều kiện an toàn, thì plasma sẽ tự động tắt.
- Camera quan
sát plasma (PlasmaCam Viewing Camera)
Hệ thống Optima 8300 tích hợp một camera quan sát plasma, cho phép đơn giản hóa việc phát triển phương pháp và chuẩn đoán từ xa.
Hệ thống Optima 8300 tích hợp một camera quan sát plasma, cho phép đơn giản hóa việc phát triển phương pháp và chuẩn đoán từ xa.
- Bộ phận đưa mẫu:
Bao gồm:
Bao gồm:
+ Tháp
Plasma/ Giá lắp tháp plasma (Torch/Mount Torch):
Tháp Plasma được thiết kế sử dụng một ống bằng thạch anh cho dòng khí plasma và dòng khí phụ trợ. Tháp có một injector bằng hợp kim nhôm, đường kính trong 2.0 mm có khả năng chịu được tất cả các acid có tính ăn mòn kể cả HF và nước cường toan.
Tháp Plasma được thiết kế sử dụng một ống bằng thạch anh cho dòng khí plasma và dòng khí phụ trợ. Tháp có một injector bằng hợp kim nhôm, đường kính trong 2.0 mm có khả năng chịu được tất cả các acid có tính ăn mòn kể cả HF và nước cường toan.
+ Giá lắp có
thể được điều chỉnh. Không cần công cụ để tháo lắp tháp cũng như giá lắp tháp
plasma.
+ Buồng phun
sương (Spray chamber): kiểu Scott được làm từ vật liệu PSS (polyphenyl sulfide)
phủ carbon có tính chống ăn mòn cao, chịu được tất cả các acid có tính ăn mòn
kể cả HF và nước cường toan.
+ Buồng phun
sương dễ dàng tháo lắp làm vệ sinh, không cần dụng cụ.
+ Bộ phận
phun sương (Nebulizer): Bộ phận phun sương tạo sol khí kiểu chéo dòng Gemtip
Crossflow (Gemtip Crossflow Nebulizer) được đặt đồng tâm với buồng đưa mẫu. Đầu
dẫn mẫu làm bằng sapphire, đầu dẫn khí argon làm bằng ruby, thân bằng PEEK. Lưu
lượng dòng khí qua buồng phun sương được điều chỉnh để cho hiệu năng và độ lặp
lại cao. Chịu được tất cả các loại acid HNO3, H2SO4,
HCl, HF, HClO4,H2O2, (50% (v/v)), HF (20%
(v/v)), bazơ NaOH (30 % v/v)…
+ Bơm nhu
động: Bơm nhu động ba kênh, được điều khiển từ máy vi tính. Lưu lượng hút: 0.2 đến
5 ml/phút với bước tăng 0.1 ml/phút cho ống có đường kính trong 0.76mm.
Phần mềm điều khiển có những đặc tính Fastpump và SmartRinse, cải tiến chế độ rửa giải và thời gian phân tích mẫu.
Phần mềm điều khiển có những đặc tính Fastpump và SmartRinse, cải tiến chế độ rửa giải và thời gian phân tích mẫu.
Phần mềm
điều khiển ICP Winlab Software
- Phần mềm
điều khiển chạy trong môi trường Window XP, dễ dàng điều khiển hệ thống máy
chính như: lưu lượng khí, nguồn RF, hiển thị các peak từng nguyên tố và dữ liệu
phân tích, lưu trữ các phổ & dữ liệu phân tích và xử lý dữ liệu, giao diện
thân thiện với mọi đối tượng sử dụng.
- Có chức
năng định dạng báo cáo sau phân tích ngắn gọn thể hiện: thông số phương pháp,
ngày/thời gian, Abs trung bình của mẫu & chuẩn, nồng độ trung bình của mẫu,
độ chính xác (%RSD/SD), đồ thị dãy chuẩn.
- Chức năng
kiểm tra các bộ phận của máy đảm bảo toàn bộ hệ thống hoạt động hoàn hảo.
- Phần mềm
hổ trợ hướng dẫn tối ưu các điều kiện phân tích, có chức năng tự động rửa thông
minh, dựa trên nồng độ nguyên tố do người sử dụng cài đặt nhờ đó mà cải thiện
độ lặp lại của phép phân tích.
+ Có chức
năng định lượng.
+ Chức năng báo cáo với công cụ trình thông minh, hướng dẫn từng bước dễ dàng tạo lập báo cáo
+ Có khả năng phân tách phổ bị trùng lắp sử dụng hai kỹ thuật IEC (Interfering Element Correction) và MSF (Multicomponent Spectral Fitting) và lưu trữ các điều kiện tối ưu cho phân tích các nguyên tố.
+ Chức năng báo cáo với công cụ trình thông minh, hướng dẫn từng bước dễ dàng tạo lập báo cáo
+ Có khả năng phân tách phổ bị trùng lắp sử dụng hai kỹ thuật IEC (Interfering Element Correction) và MSF (Multicomponent Spectral Fitting) và lưu trữ các điều kiện tối ưu cho phân tích các nguyên tố.
Hệ thống làm
mát máy bằng nước hoàn lưu (Refrigerated
recirculating cooling system)
- Nhiệt độ
làm việc: 5 - 35oC
- Độ chính
xác nhiệt độ: ± 0.5oC
- Công suất
làm lạnh: 2850W ở 20oC
- Tốc độ
nước làm mát: 4 gallon/phút (khoảng 16 lít/phút).
- Nguồn điện: 220/240V-50Hz, 13 A
Hệ thống hút
khí thải – Việt Nam
Bao gồm mô tơ, chụp hút, và ống dẫn (đủ cho lắp đặt hệ thống khôg quá 6m) để hút hơi đốt ra khỏi buồng đốt.
Bao gồm mô tơ, chụp hút, và ống dẫn (đủ cho lắp đặt hệ thống khôg quá 6m) để hút hơi đốt ra khỏi buồng đốt.
Dung dịch
chuẩn dùng để kiểm tra máy khi lắp đặt máy và khi hiệu chuẩn, bao gồm các dung dịch:
- Chuẩn đa
bước sóng cho detector
- Chuẩn kiểm
tra độ nhạy
- Chuẩn kiểm
tra độ ổn định
- Chuẩn kiểm
tra độ phân giải bước sóng
CÁC TÙY CHỌN VÀ PHỤ KIỆN THEO MÁY
Bộ lấy mẫu
tự động – Autosampler, Model: S10
Hãng sản xuất: PerkinElmer – Mỹ
Xuất xứ: Singapore.
Hãng sản xuất: PerkinElmer – Mỹ
Xuất xứ: Singapore.
- Điều khiển
hoàn toàn bằng máy tính
- Khả năng lấy mẫu: rộng và linh động.
- Khả năng rửa: tự động.
- Chuyển động của tay lấy mẫu: Thẳng đứng: 145 mm; phương ngang: x 302 mm, y 222 mm.
- Độ phân giải: 0,1 mm ± 4%.
- Nguồn điện: 230V/ 50 Hz.
- Kích thước: 460 mmx530 mmx378 mm
Cung cấp kèm theo:
+ Khay chứa 148 vị trí mẫu, 8 vị trí cho mẫu chuẩn và 1 vị trí cho rửa.
+ 01 đầu hút mẫu.
+ 50 lọ mẫu loại 15 mL, 50 lọ loại 50 mL.
+ 01 lọ rửa (250 mL).
- Khả năng lấy mẫu: rộng và linh động.
- Khả năng rửa: tự động.
- Chuyển động của tay lấy mẫu: Thẳng đứng: 145 mm; phương ngang: x 302 mm, y 222 mm.
- Độ phân giải: 0,1 mm ± 4%.
- Nguồn điện: 230V/ 50 Hz.
- Kích thước: 460 mmx530 mmx378 mm
Cung cấp kèm theo:
+ Khay chứa 148 vị trí mẫu, 8 vị trí cho mẫu chuẩn và 1 vị trí cho rửa.
+ 01 đầu hút mẫu.
+ 50 lọ mẫu loại 15 mL, 50 lọ loại 50 mL.
+ 01 lọ rửa (250 mL).
Hệ thống phân
tích Hydride dòng liên tục (Continuos Flow Hydride Analysis system) dùng cho phân tích các nguyên tố
như Arsene, Thủy ngân, Selene,…
Máy nén khí
không dầu (dùng để cắt đuôi plasma trong quá trình hoạt động)
Hãng: Gast –
Mỹ
Máy loại không dùng dầu và có bộ lọc khô khí nén
Lưu lượng 170 L/phút, bình chứa khí nén 50 lít
Nguồn điện: 220V/50Hz.
Máy loại không dùng dầu và có bộ lọc khô khí nén
Lưu lượng 170 L/phút, bình chứa khí nén 50 lít
Nguồn điện: 220V/50Hz.
Khí argon
tinh khiết kèm van điều áp
Bình khí Ar – Messer –Việt Nam
Mua trong nước (khí và vỏ chai)
99.999%, áp suất 150 bar, dung tích 40.2 lít
Van điều áp.
Bình khí Ar – Messer –Việt Nam
Mua trong nước (khí và vỏ chai)
99.999%, áp suất 150 bar, dung tích 40.2 lít
Van điều áp.
Máy tính và
máy in: (mua trong
nước)
Cấu hình máy tính và máy in tối thiểu:
Cấu hình máy tính và máy in tối thiểu:
Máy vi tính: DELL
Intel Core 2 Duo ( 2 x 2 GHz),
RAM 4GB
HDD 500GB
DVD-Rewrite
LCD 19” color monitor
Sound card, keyboard, mouse, network card, 8 USB ports 2.0
Bản quyền Window XP hay Window 7 software
Intel Core 2 Duo ( 2 x 2 GHz),
RAM 4GB
HDD 500GB
DVD-Rewrite
LCD 19” color monitor
Sound card, keyboard, mouse, network card, 8 USB ports 2.0
Bản quyền Window XP hay Window 7 software
Máy in: HP LaserJet
UPS 10KVA
PHỤ TÙNG
TIÊU HAO VÀ DỰ PHÒNG
Quartz Torch 2X00/7X00DV1 slot
Red/Red 1.14 mm i.d. PVC pkg. 12
Black/Black 0.76mm i.d. PVC pkg.12
INJECTOR, ALUMINA 2.0MM 2000/4000
Scott spray chamber
Cross flow neubulizer
Không có nhận xét nào:
Đăng nhận xét