Mr. HOÀNG LONG _ 0932 664422 _ 08 66 570570 _ Máy AAS Analytik Jena _ Máy UVVIS Analytik Jena _ Máy : PERKIN ELMA - HỆ THỐNG QUANG PHỔ PHÁT XẠ GHÉP NỐI CẶP CẢM ỨNG ICP-OES PERKIN ELMA OPTIMA 7300DV

Tính năng: Phân tích đồng thời hàm lượng vết các nguyên tố kim loại(Cu, Pb, Ni, Cd, Cr, Mn, Al, Zn, Sn, Hg, As, Se, Bi, Sb, K, Na…) trong môi trường nước, khí, đất

Phương pháp đo: quang phổ phát xạ nguyên tử

Hệ thống quang học: hai chế độ đo dọc trục và xuyên tâm. Toàn bộ hệ thống quang được cách ly, ổn nhiệt, và được làm sạch nhờ dòng khí pugre.

- Chế độ đo cường độ phát xạ từ nguồn Plasma : Bao gồm hai chế độ đo: dọc trục và xuyên tâm, nên giới hạn phát hiện thấp nhất và khoảng nồng độ đo là rộng nhất mở rộng khoảng ứng dụng phân tích từ nồng độ % tới ppb

- Điều chỉnh chế độ đo từ tháp plasma theo hai phương: ngang và dọc trục bằng cách di chuyển một gương trên đặt trên đường dẫn quang học, thực hiện chế độ đo: dọc trục và xuyên tâm hoặc đồng thời cả hai, vị trí điều chỉnh tối ưu được thực hiện từ phần mềm

- Hệ thống đa cách tử nhiễu xạ bao gồm: bộ đơn sắc thứ nhất là cách tử Echelle 80 x 160 mm (được kết hợp giữa hai cách tử 79 vạch/mm và cách tử Schmidt với 374 vạch/mm), bộ đơn sắc thứ hai là lăng kính thạch anh cho vùng khả kiến.

- Khoảng bước sóng: 163 – 782 nm

- Độ phân giải 0.006nm

- Sử dụng hai đầu dò SCD (Segmented Array Charge coupled Device Detector), một cho vùng tử ngoại và một cho vùng khả kiến với độ ồn tín hiệu đọc : 13 electron RMS, dòng tối ( Dark current) : < 100 electron/ pixels/giây và tốc độ đọc : 50 µgiây/pix

- Hệ thống chuẩn lại bước sóng bằng đèn thủy ngân và shutter mỗi lần trước khi đo, shutter hoạt động đóng mở tự động cho mỗi lần đo, bảo vệ hệ thống gương khỏi sự tiếp xúc với tia UV từ nguồn plasma, kéo dài tuổi thọ của gương

- Nguồn phát cao tần dạng bán dẫn chống dao động (free- running solid state) với công suất 40MHz không cần sử dụng ống khuếch đại công suất, công suất phát cao tần được điều chỉnh từ 750-1500W với bước thay đổi 1W, Độ ổn định công suất đầu ra 0.1%, đảm bảo tín hiệu được ổn định. Hiệu suất phát cao tần >81%, đây là kỹ thuật phát cao tần mới với hiệu suất cao.

- Điền khiển công suất và khởi động Plasma : Khởi động plasma được thực hiện trên máy vi tính và tự động hóa. Phần mềm cho phép tự động khởi động plasma ở thời điểm mà người sử dụng xác định và tự động tắt sau khi kết thúc quá trình phân tích.

- Cắt đuôi lạnh plasma bằng dòng khí nén thông thường với lưu lượng : 18 – 25 lít/phút tránh giảm nhiễu tối đa và hạn chế thấp nhất số lần bảo trì hệ thống quang, và chi phí thấp nhất so với cắt đuôi lạnh dùngCone phải thường xuyên bảo trì cone và hệ thống quang học do muối bám

- Chức năng an toàn: tự động kiểm tra các thông số của hệ thống như: tốc độ nước làm lạnh, áp suất khí cắt đuôi lạnh, áp suất khí argon, cửa buồng plasma, độ ổn định plasma liên tục hiển thị khoá trên màn hình, nếu có bất kỳ chức năng nào không an toàn, plasma sẽ tự động tắt

- Hệ thống đánh lửa plasma hoàn toàn tự động từ máy tính thông qua phần mềm, có thể cài đặt các chức năng thời gian tự động đánh lửa hay tắt plasma. Lưu lượng argon tiêu hao từ 0 – 20 lít/phút cho plasma với bước tăng 1 lít/phút, 0 – 2 lít/phút cho dòng khí phụ trợ với bước tăng 0.1 lít/phút.

- Tốc độ khí cung cấp cho hệ thống được điều khiển hoàn toàn tự động từ máy tính thông qua phần mềm ICP Winlab

Hệ thống phun sương: bao gồm bơm nhu động ba kênh được điều khiển bằng máy tính, buồng phun sương và đường ống dẫn được chế tạo bằng vật liệu chống ăn mòn chịu được tất cả các loại axit (HNO₃, H₂SO4, HCl, HF, HClO₄…)

Hệ thống làm mát máy bằng nước hòan lưu

(Refrigerated Recirculating Cooling Syste)

Hãng sản xuất: PolyScience – Mỹ

- Nhiệt độ nước làm việc : 5 – 35^oC.

- Độ chính xác nhiệt độ : ± 0.5^oC.

- Công suất làm lạnh : 2850W ở 20^oC.

- Tốc độ nước làm mát : 4gallon/phút (khoảng 16lít/phút).

- Được điều khiển kích hoạt bằng phần mềm

- Nguồn điện : 220/240V-50 Hz.

Chất lỏng làm mát dùng cho hệ thống làm mát tuần hoàn (Chiller Coolant for the Recirculating Cooling System)

Máy nén không khí không dầu (Air compressors)

Hãng sản xuất: Gast – Mỹ

Dùng để cắt đuôi lạnh Plasma thay thế khí Argon vì khí nén từ máy nén khí rẻ tiền và đơn giản.

Thông số kỹ thuật:

- Cung cấp 50L/phút ở 4.2 kg/cm², được đặt trên một bình chứa 38 lít

- Bình chứa làm từ vật liệu có độ bền cao đáp ứng các tiêu chuẩn ASME

- Bao gồm Lọc để loại trừ nước & bụi

- Độ ồn 65 dB, 230 V, 50Hz

Phần mềm điều khiển ICP Winlab 32 Software – có bản quyền

- Phần mềm điều khiển chạy trong môi trường Window XP (có bản quyền), dễ dàng điều khiển và xử lý dữ liệu, giao diện thân thiện

- Điều khiển hệ thống: plasma, khí, nguồn phát cao tần,… và tất cả các phụ kiện kết nối khác như: bộ tiêm mẫu tự động, bộ tiêm dòng,…

- Chức năng tự động kiểm tra các bộ phận của máy đảm bảo toàn bộ hệ thống hoạt động hoàn hảo

- Chức năng tự động tối ưu hóa thiết bị

- Định lượng: thiết lập phương trình hồi qui, tính tóan kết quả, có khả năng phân tách phổ trùng, lập báo cáo

- Dùng cho phương pháp ngoại chuẩn đa nguyên tố và thêm chuẩn

- Bổ trợ hướng dẫn tối ưu những điều kiện phân tích của các nguyên tố và lưu lại điều kiện tối ưu

- Phần mềm bổ trợ hướng dẫn tối ưu các điều kiện phân tích và chức năng tự động rửa thông minh,

- Định lượng và báo cáo với công cụ trình thông minh, hướng dẫn từng bước dễ dàng tạo lập báo cáo

- Có khả năng phân tách phổ bị trùng lắp sử dụng kỹ thuật IEC (Interfering Element Correction) và MSF (Multicomponent Spectral Fitting)

Máy tính & máy in- Mua trong nước

Máy tính Dell: Intell Core 2 Duo, 2 x 2.4GHz, RAM 2GB, 200GB HDD, CD-RW, LCD 17”, DVD RW, card mạng, Hệ điều hành Window XP có bản quyền

Máy in HP lazer

Dung dịch chuẩn đa nguyên tố có giấy chứng nhận dùng kiểm tra và hiệu chuẩn máy khi lắp đặt

- Chuẩn đa bước sóng cho detector

- Chuẩn kiểm tra độ nhạy

- Chuẩn kiểm tra độ ổn định

- Chuẩn kiểm tra độ phân giải của bước sóng

Dung dịch chuẩn các nguyên tố gồm 15 nguyên tố thông dụng trong nước (chuẩn đơn nguyên tố/chai)- Merck. Chai: 500ml, nồng độ 1000ppm

Hệ thống hút khí thải: gồm quạt hút, chụp hút. Ống dẫn (Việt nam)

Khí Argon 99.999%, bình 47 lít – Mua trong nước

Van điều áp

Phụ kiện: Ngoài bộ phụ kiện dành cho phân tích mẫu nền acid cung cấp theo máy tính. Cung cấp THÊM các phụ kiện sau:

- Buồng phun sương cải thiện độ nhạy (Baffled cyclonic spray chamber) & adapter

- Bộ phun sương mẫu (Neubulizer MEINHARD type C) cho phân tích mẫu có hàm lượng muối cao

Hệ thống FIA tạo dòng hydride liên tục sử dụng cho ICP

(Hydride Generation Inductively Coupled Argon

Plasma Optical Emission Spectroscopic Analysis" (HY-ICP) using a continuous flow system)

Nguyên tắc: sử dụng bơm nhu động của ICP, mẫu sau khi đựơc acid hóa, blank hoặc chuẩn đựơc bơm liên tục & trộn với dòng chất khử (thường sử dụng NaBH4), để sinh ra hơi hydrua. Tại thời điểm phản ứng, khí hydrogen đựơc sinh ra như sản phẩm phụ. Dòng khí argon đựơc đưa vào hỗn hợp này và hydrides được tách vào pha khí. Sự tách khí/lỏng cho phép khí, pha có hydride đi vào ICP để phân tích, chất lỏng còn lại được bơm thải

Nguyên tố Giới hạn phát hiện (3*SD)

( µ g / L )

Sb 0.1

As 0.1

Bi 0.5

Se 0.4

Te 1.5

Hg <1

Cấu tạo gồm: Bộ trộn/phân tách lỏng/khí, màng lọc PTFE (gói/50 cái) các ống dây kết nối.

Hóa chất:

NaBH4 (100g)

SnCl2 (100g)

Bộ ổn áp và lưu điện

Model: UPS SANTAK Online 10KVA

Hãng sản xuất: Santak – Hoa Kỳ - SX tại Trung Quốc

Mua tại Việt Nam

Thông số kỹ thuật:

10KVA/ 7KW

Input: 176-276 VAC

Output: 220 ± 1% Volt Fre.: 50Hz ± 0.1%

Wave form: SINE

Phần mềm quản trị năng lượng và tự động shutdown hệ thống –Winpower đi kèm theo thiết bị.

Thiết kế sẵn khe cắm card điều khiển mở rộng (dùng để cắm Card Webpower (SNMP), Card Winpower CMC hay Card AS 400 khi khách hàng có nhu cầu)

Khả năng lưu điện khi mất điện lưới: tối đa 15 phút 50% tải/ 5 phút 100% tải.

Phần phụ kiện tiêu hao dự phòng

Torch thạch anh (Quartz torch)

Bộ phận tiêm mẫu bằng Alumium (aluminum injector) có đường kính trong 2mm cho nền acid

Buồng phun sương Scott

Bộ phân phun sương GemtipCrossflow nebulizer

Bonet thạch anh

Cửa sổ bằng thạch anh cho chế độ dọc trục

Cửa sổ cho chế độ xuyên tâm

ống dẫn mẫu trong nền acid (sampling tubing), 12/pk

ống thải mẫu trong nền acid (sampling tubing), 12/pk

Ron & ống dây đồng dành cho torch : 05 cái/ mỗi loại

Bộ phận lấy mẫu tự động S10– Tùy chọn thêm

cho máy quang phổ phát xạ

Điều khiển hoàn toàn tự động bằng phần mềm với khay chứa 149 vị trí

Trang

Thứ Sáu, 1 tháng 8, 2014

PERKIN ELMA - HỆ THỐNG QUANG PHỔ PHÁT XẠ GHÉP NỐI CẶP CẢM ỨNG ICP-OES PERKIN ELMA OPTIMA 7300DV

- Sử dụng hai đầu dò SCD (Segmented Array Charge coupled Device Detector), một cho vùng tử ngoại và một cho vùng khả kiến với độ ồn tín hiệu đọc : 13 electron RMS, dòng tối ( Dark current) : < 100 electron/ pixels/giây và tốc độ đọc : 50 µgiây/pix

Không có nhận xét nào:

Đăng nhận xét

Người theo dõi

Wikipedia